[实用新型]具有分隔的供气管线的等离子体处理腔室及等离子体处理系统有效
| 申请号： | 201520346288.8 | 申请日： | 2015-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN204857653U | 公开（公告）日： | 2015-12-09 |
| 发明（设计）人： | S·D·亚达夫;陈志坚 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 黄嵩泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开案涉及具有分隔的供气管线的等离子体处理腔室及等离子体处理系统。本公开案公开了用于将前驱物气体分别提供到等离子体处理系统的方法与设备，所述等离子体系统包括第一前驱物源和第二前驱物源，以及第三前驱物源，所述第一前驱物源和第二前驱物源通过第一进料管线和第二进料管线耦接到设置在所述腔室上的远程等离子体源，所述第三前驱物源包含含氟气体并且通过与所述第一进料管线和所述第二进料管线分隔的第三进料管线耦接到在所述远程等离子体源和所述腔室之间延伸的输出导管。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 分隔 供气 管线 等离子体 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理腔室，包括：第一前驱物源和第二前驱物源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源通过第一进料管线和第二进料管线耦接到设置在所述腔室上的远程等离子体源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源中的一者包含六甲基二硅氧烷流体；以及第三前驱物源，所述第三前驱物源包含含氟气体，所述第三前驱物源通过与所述第一进料管线和所述第二进料管线分隔的第三进料管线耦接到在所述远程等离子体源和所述腔室之间延伸的输出导管。
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