[实用新型]用于测量特定气体组分的测量装置有效

专利信息
申请号: 201520320366.7 申请日: 2015-05-18
公开(公告)号: CN204924916U 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 罗尔夫·迪施;帕斯卡·奥特文 申请(专利权)人: 西克股份公司
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 程爽;郑霞
地址: 德国瓦*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 实用新型涉及一种用于测量特定气体组分的测量装置,所述测量装置通过几个宏观机械运动部件来实现。因此提出一种测量装置,其装配有-宽带光源,其被设计用于调制地发出光;-测量体积,其中有待测气体;-第一光偏转单元,其具有至少一个MEMS反射镜,并将光交替地偏转到两个光路上;-并且其中一个第一路径被构造成测量路径并包括第一滤波器元件;-并且其中另一个第二路径被构造成参考路径并包括第二滤波器元件;-光学元件,其将测量路径和参考路径又重新引至同一光路;-光探测器;以及-评估和控制单元,其用于控制光源和光偏转单元以及用于评估检测到的光强度,并从而测量气体组分。
搜索关键词: 用于 测量 特定 气体 组分 装置
【主权项】:
一种用于测量特定气体组分的测量装置,所述测量装置具有:‑宽带光源,所述宽带光源被设计用于调制地发出光;‑测量体积,在所述测量体积中有待测气体;‑第一光偏转单元,所述第一光偏转单元包括至少一个MEMS反射镜,并将光交替地偏转到两个光路上;‑并且其中一个第一路径被构造成测量路径并包括第一滤波器元件;‑并且其中另一个第二路径被构造成参考路径并包括第二滤波器元件;‑光学元件,所述光学元件将所述测量路径和所述参考路径又重新引至同一光路;‑光探测器;以及‑评估和控制单元,所述评估和控制单元用于控制光源和光偏转单元以及用于评估检测到的光强度,并从而测量所述气体组分。
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