[发明专利]一种掩膜板及其制备方法有效
申请号: | 201510976337.0 | 申请日: | 2015-12-23 |
公开(公告)号: | CN105543905B | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 祝晓钊;朱修剑;甘帅燕 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C25D1/10 | 分类号: | C25D1/10;C25D1/08;C23C14/04 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 彭秀丽 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明属于有机光电领域,所述的一种掩膜板的制备方法,步骤简单,无需使用刻蚀工艺,工艺成本低;使用电铸法制备形成掩膜板,不但精度高,能够有效提高所述掩膜板的分辨率,而且工艺成熟,生产成本低。本发明所述的一种掩膜板,采用电铸工艺制备,精度高,分辨率高,能够有效提高使用其的显示设备的图像质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在母版上形成第一光刻胶层,并图案化形成包括第一骨架与第一镂空区域的第一掩膜图案层;以所述第一掩膜图案层为掩膜,在所述母版上形成嵌设在所述第一镂空区域中的第一电铸层;在所述第一电铸层上形成第二光刻胶层,并图案化形成包括第二骨架与第二镂空区域的第二掩膜图案层;沿所述第二骨架的所在平面的垂直方向,所述第二骨架的截面为不连续的若干倒置梯形;以所述第二掩膜图案层为掩膜,在所述第一电铸层上直接形成嵌设在所述第二镂空区域中的第二电铸层;去除所述第一掩膜图案层与所述第二掩膜图案层;将所述第一电铸层与所述第二电铸层从所述母版 上剥离,即得。
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