[发明专利]包括自组装嵌段共聚物的膜和通过混合流延制造该膜的方法(Ib)有效

专利信息
申请号: 201510363772.6 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN105175771B 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: K·A-H·H·阿穆尔;D·L·格勒兹尼亚 申请(专利权)人: 帕尔公司
主分类号: C08J9/26 分类号: C08J9/26;C08J5/18;C08L53/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 汪宇伟
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了式(I)的自组装二嵌段共聚物形成的膜:其中R1‑R4,n和m如本文所述,其用于制备多孔膜。含有自组装为圆柱形态的二嵌段共聚物的膜的实施方式。还公开了一种制备这种膜的方法,其包括混合流延含有二嵌段共聚物的聚合物溶液以获得薄膜,随后从薄膜蒸发一些溶剂,在含有二嵌段共聚物的非溶剂或不良溶剂的浴中凝固所得到的该膜。
搜索关键词: 二嵌段共聚物 式( I ) 自组装 流延 制备 自组装嵌段共聚物 聚合物溶液 薄膜蒸发 不良溶剂 多孔膜 非溶剂 溶剂 薄膜 凝固 制造
【主权项】:
1.一种制备包括式(I)的二嵌段共聚物的多孔膜的方法:其中:R1是C1-C22烷基基团,可选地被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基,酰氨基和硝基的取代基取代,或C3-C11环烷基基团,可选地被选自烷基、卤素、烷氧基,烷基羰基、烷氧基羰基,酰氨基和硝基的取代基取代;R2是C6-C20的芳基基团或者杂芳基基团,可选地被选自羟基,氨基,卤素,烷氧基,烷基羰基,烷氧基羰基,酰氨基和硝基的取代基取代;R3和R4之一是C6-C14芳基基团,可选地被选自羟基,卤素,氨基和硝基的取代基取代,和R3和R4的另一个是C1-C22烷氧基基团,可选地被选自羧基,氨基,巯基,炔基,烯基,卤素,叠氮基和杂环基的取代基取代;和n和m相对独立的是10至2000;其中在二嵌段共聚物中含有R2的单体的体积分数与含有R1的单体的体积分数之比为2.3至5.6:1;所述方法包括:(i)在溶剂体系里溶解所述二嵌段共聚物以获得聚合物溶液;(ii)涂覆聚合物溶液到基材上;(iii)从(ii)中获得的涂层蒸发至少一部分溶剂;(iv)将来自(iii)的涂层浸渍在凝固浴中;和(v)洗涤(iv)中获得的多孔膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于帕尔公司,未经帕尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510363772.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top