[发明专利]电荷粒子束照射系统有效
申请号: | 201510085293.2 | 申请日: | 2015-02-16 |
公开(公告)号: | CN104941076B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 伊藤友纪;松田浩二;品川亮介;田所昌宏;西村荒雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 曾贤伟,郝庆芬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够缩短电荷粒子束向照射对象的照射时间的电荷粒子束照射系统。具备电荷粒子束产生装置,其加速地射出电荷粒子束;照射装置,其具有扫描电荷粒子束的扫描电磁铁,向照射对象的多个照射点射出加速后的电荷粒子束;射束射线量测量器,其求出通过照射装置内的电荷粒子束的射线量;射束位置测量器,其求出通过扫描电磁铁扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或双方。 | ||
搜索关键词: | 电荷 粒子束 照射 系统 | ||
【主权项】:
一种电荷粒子束照射系统,上述电荷粒子束照射系统具备:电荷粒子束产生装置,其加速地射出电荷粒子束;照射装置,其具有扫描加速后的电荷粒子束的扫描电磁铁,向多个照射点射出加速后的上述电荷粒子束,该多个照射点是针对在上述电荷粒子束的前进方向上将照射对象分割为多个而成的每个层进行设定的;射束射线量测量器,其求出通过上述照射装置内的电荷粒子束的射线量;射束位置测量器,其求出通过上述扫描电磁铁所扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或其双方,其中上述射束位置测量器针对该多个照射点中的每个照射点开始计算上述电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或其双方,并且当发出分段射线量已满信号时求出计算结果,并判定所求出的结果是否处于允许范围内,上述射束位置测量器针对将该多个照射点中的一部分或全部的照射点分割为多个分段而管理射线量的分段,在向该多个照射点照射电荷粒子束的过程中,对上述多个分段中的每个分段求出上述电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或其双方,上述电荷粒子束照射系统的特征在于,上述射束位置测量器判定所求出的结果是否处于允许范围内,并且在对上述多个分段中的每个分段进行判定结束之后,开始计算对于下一个分段所求出的上述电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或其双方。
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