[发明专利]一种γ射线处理调节催化脱硫吸附剂孔结构的方法

摘要

本发明为一种γ射线处理调节催化脱硫吸附剂孔结构的方法，特征在于：采用共沉淀法制备吸附剂浆液，载体为氧化硅或氧化铝中的一种或两种；金属活性组分选自为过渡金属钴、钼、镍、锰、铁、锌中的两种或几种，其中镍为主活性组分，其余过渡金属为辅助活性组分；将过渡金属的硝酸盐配制成酸性溶液，然后将硅溶胶或铝溶胶碱性溶液添加到酸性溶液中，调节溶液至pH＝8，将制备好的浆液装入可塑封容器中，用氮气置换后，塑封，开启电子加速器，在辐照剂量范围内，以γ射线辐照一定时间；辐照后浆液经过滤、洗涤、干燥，得到催化剂前驱体，再经过焙烧后进行挤条或压片成型，获得共沉淀法制备的吸附剂。

主权项

一种γ射线处理调节催化脱硫吸附剂孔结构的方法，其特征在于：采用共沉淀法制备吸附剂浆液，载体为氧化硅或氧化铝；金属活性组分由主活性组分和辅助活性组分组成，其中镍为主活性组分，以氧化物计占吸附剂总量的30‑35重％，辅助活性组分为过渡金属钴、钼、锰、铁、锌中的一种或多种的组合，以氧化物计占吸附剂总量的15‑20重％，余量为氧化硅或氧化铝载体；将金属活性组分的硝酸盐配制成酸性溶液，然后将硅溶胶或铝溶胶碱性溶液添加到酸性溶液中，调节溶液至pH＝8，将制备好的浆液装入可塑封容器中，用氮气置换后，塑封，开启电子加速器，在辐照剂量范围内，以γ射线辐照一定时间；辐照后浆液经过滤、洗涤、干燥，得到催化剂前驱体，再经过焙烧后进行挤条或压片成型，获得共沉淀法制备的吸附剂；具体步骤如下：1)等pH共沉淀法制备吸附剂浆液：将金属活性组分的硝酸盐配制成酸性溶液，并将铝溶胶或硅溶胶分别配制成碱性溶液，在pH＝8的条件下同时进行酸碱溶液的共沉淀，得到吸附剂浆液；2)将制备好的吸附剂浆液装入可塑封容器中，用氮气置换三次后，塑封，以排除氧气对反应的影响；开启电子加速器，在50‑150KGy辐照剂量下，以γ射线辐照1‑10分钟；辐照后浆液经过滤、洗涤、焙烧后进行挤条或压片成型，获得等pH共沉淀法制备的吸附剂；吸附剂的比表面积为370‑540m2/g，孔容为0.5‑1.5cm3/g。