[发明专利]用于旋转涂布中的缺陷控制的盖板有效
| 申请号： | 201480077666.5 | 申请日： | 2014-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN106132564B | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 德里克·W·巴塞特;华莱士·P·普林茨;乔舒亚·S·霍格;一野克宪;寺下裕一;吉原孝介 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05D3/12 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘炜;杨颖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法：其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成，从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间，同时保持膜均匀性。本发明公开的技术包括定位在或悬吊在晶片或其他衬底的表面的上方的流体流动构件，如环或盖。该流体流动构件的径向曲率能够防止在晶片的涂布和旋转干燥处理期间的旋转过程中形成风痕。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 旋转 中的 缺陷 控制 盖板 | ||
【主权项】：
1.一种用于涂布衬底的旋转涂布设备，所述旋转涂布设备包括：/n衬底保持件，所述衬底保持件构造成在旋转涂布处理期间水平地保持所述衬底；/n旋转机构，所述旋转机构连接至所述衬底保持件，所述旋转机构构造成使所述衬底保持件绕旋转轴线旋转；/n液体分配器，所述液体分配器构造成在所述衬底被设置在所述衬底保持件上时将液体材料分配至所述衬底的加工表面上，所述加工表面具有圆形形状并且所述加工表面为平面并且与所述衬底的与所述衬底保持件接触的下表面相反；/n环形的流体流动构件，所述流体流动构件具有面向衬底的表面，所述流体流动构件构造成当所述衬底被设置在所述衬底保持件上时所述流体流动构件被定位成使得所述面向衬底的表面被定位在所述衬底的所述加工表面的环形部分的竖直上方，所述加工表面的所述环形部分从所述加工表面的外边缘延伸至离所述旋转轴线预定的径向距离处，所述面向衬底的表面弯曲成使得所述面向衬底的表面与所述加工表面之间的给定的竖向距离沿径向相对于离所述旋转轴线的给定的径向距离变化；以及/n竖向移动机构，所述竖向移动机构构造成当所述衬底设置在所述衬底保持件上时并且在所述旋转机构被致动以使所述衬底保持件旋转时增大或减小所述面向衬底的表面与所述加工表面之间的平均竖向距离，/n其中，所述面向衬底的表面具有外环形部分和内环形部分，所述内环形部分比所述外环形部分离所述旋转轴线更近，所述面向衬底的表面的所述内环形部分被定位在所述加工表面的所述环形部分的内部分的上方并且具有第一曲率半径，并且所述面向衬底的表面的所述外环形部分被定位在所述加工表面的所述环形部分的边缘部分的上方并且具有第二曲率半径，所述第二曲率半径不同于所述第一曲率半径，所述面向衬底的表面相对于所述加工表面为凸的。/n
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