[发明专利]用于设计量测目标的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201480071612.8 申请日: 2014-12-04
公开(公告)号: CN105874389B 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 陈光青;查斯丁·甘;D·H·维苏 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种量测目标设计的方法被描述。所述方法包括提供对于量测目标的设计参数的范围或多个值,并且利用处理器,在对于所述设计参数的所述取值范围或多个值内,通过求解和/或采样,来选择具有满足对于所述量测目标的设计参数而言的约束条件的一个或更多的设计参数的多个量测目标设计。
搜索关键词: 量测 设计参数 目标设计 方法和设备 约束条件 处理器 采样 求解
【主权项】:
1.一种计算机实施的量测目标设计的方法,所述方法包括:提供针对量测目标的各个设计参数的取值范围或多个值;和利用处理器,通过在针对所述设计参数的所述取值范围或多个值内采样,来求解和/或选择具有满足对所述量测目标的设计参数的一个或更多个约束条件的一个或更多个设计参数的多个量测目标设计,其中,所述一个或更多的约束条件限定超立方内的凸多面体,所述一个或更多个设计参数被认为是所述超立方的一个或更多个正交轴线,每个约束条件提供对于一个或更多的参数的限制,由此限定沿着所述一个或更多的参数轴线的多面体侧,且其中,所需的量测目标设计通过求解约束条件和/或使用一个或更多的规则来对所述多面体的体积进行采样来找出。
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