[发明专利]安全元件及其生产方法有效
申请号: | 201480041139.9 | 申请日: | 2014-05-16 |
公开(公告)号: | CN105392851B | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | M·里歇特;O·泽格;N·A·格里戈连科 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | B42D25/364 | 分类号: | B42D25/364;C09D11/14;C09D11/037 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 王丹丹;刘金辉 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及基于液晶涂层,随后将其用特定金属纳米型金属颗粒涂覆的复合安全元件,其生产方法,特别是在玻璃、纸或塑料基底上生产,和可使用该安全元件得到的安全产品。安全元件还可包含浮雕表面凸起微结构,尤其是光学可变图像(光学可变器件,OVD),例如全息图。本发明的另一方面是该安全文件在防止有价值产品的伪造和复制中的用途。 | ||
搜索关键词: | 安全 元件 及其 生产 方法 | ||
【主权项】:
1.安全元件,其包含:a)基底,b)在基底的至少一部分上的包含至少一种液晶化合物的涂层,所述涂层:如果基底为透明或半透明的,则施涂于基底的反面上,或者如果基底为透明、半透明、反光或不透明的,则施涂于表面上,和c)在包含液晶化合物的涂层的至少一部分上或者如果包含液晶化合物的涂层置于基底反面上的话则直接在基底上的另一涂层,所述另一涂层包含具有5nm至1000nm的边长最长尺寸,和2nm至100nm的厚度的微片型过渡金属颗粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴斯夫欧洲公司,未经巴斯夫欧洲公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480041139.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 安全元件及其生产方法-201480041139.9
- M·里歇特;O·泽格;N·A·格里戈连科 - 巴斯夫欧洲公司
- 2014-05-16 - 2018-09-11 - B42D25/364
- 本发明涉及基于液晶涂层,随后将其用特定金属纳米型金属颗粒涂覆的复合安全元件,其生产方法,特别是在玻璃、纸或塑料基底上生产,和可使用该安全元件得到的安全产品。安全元件还可包含浮雕表面凸起微结构,尤其是光学可变图像(光学可变器件,OVD),例如全息图。本发明的另一方面是该安全文件在防止有价值产品的伪造和复制中的用途。
- 隐藏图像安全装置和方法-201680014134.6
- 加里·费尔利斯·鲍尔;佩·洛克 - CCL证券私人有限公司
- 2016-03-03 - 2017-12-01 - B42D25/364
- 一种用于生产光学装置、优选地安全装置的方法,其包括以下步骤在衬底、优选地透明衬底的基本上平坦的第一表面上形成平面浮雕结构,所述平面浮雕结构具有第一对准方向并且包括各自具有相同高度的多个浮雕结构元件;以及将液晶聚合物(LCP)层施加到所述平面浮雕结构上,使得所述LCP层与所述浮雕结构对准,其中所述LCP层包括在所述衬底的所述基本上平坦的第一表面上方具有第一高度的至少一个或多个第一LCP区以及具有第二高度的一个或多个第二LCP区域,其中所述第二高度不同于所述第一高度,并且一种光学装置通过这种方法形成。
- 专利分类