[发明专利]具有石墨烯屏蔽体的三维(3D)集成电路(3DIC)以及相关的制造方法在审

专利信息
申请号: 201480008148.8 申请日: 2014-02-07
公开(公告)号: CN104981899A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: Y·杜 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/373;H01L27/02;H01L27/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;陈松涛
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种具有石墨烯屏蔽体的三维(3-D)集成电路(3DIC)。在某些实施例中,在3DIC的两个相邻层级(34,52)之间设置至少一层石墨烯层(38)。石墨烯层是由纯碳制成的、具有原子以规则六边形图案排列的至少一个原子厚度的片状层。石墨烯层可以被设置在3DIC中任意层数的相邻层级之间。在示例性实施例中,石墨烯层提供了3DIC中相邻层级或相邻层之间的电磁干扰屏蔽体,以便减少层级之间的串扰。在其它示例性实施例中,石墨烯层可以被设置在3DIC中,以便提供引导热量朝向3DIC的周边区域并向3DIC的周边区域散发热量的散热器。在一些实施例中,石墨烯层被配置为提供EMI屏蔽体和热屏蔽体两者。
搜索关键词: 具有 石墨 屏蔽 三维 集成电路 dic 以及 相关 制造 方法
【主权项】:
一种单片三维(3‑D)集成电路(3DIC),包括:包括第一部件的第一半导体集成电路层级;包括第二部件的第二半导体集成电路层级,所述第二部件相对于所述第一半导体集成电路层级垂直设置;以及至少一层石墨烯层,所述至少一层石墨烯层被设置在所述第一半导体集成电路层级与所述第二半导体集成电路层级之间,以使得所述至少一层石墨烯层既不是所述第一部件的部分也不是所述第二部件的部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通股份有限公司,未经高通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480008148.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top