[实用新型]基座及LPCVD炉管

摘要

本实用新型提供一种基座，包括支撑板、隔冷子基座和保温子基座。支撑板内设有进液口、出液口及供冷却液循环的空腔结构，在薄膜沉积时在支撑板内通入冷却水使得支撑板保持较低的温度，反应气体SiH₄在低于200℃时不会分解，使得多晶硅薄膜不会在支撑板上沉积，又由于保温子基座及隔冷子基座外表面均为碳化硅，即使在其表面形成有多晶硅薄膜沉积，所沉积的多晶硅薄膜与碳化硅具有较强的吸附力，不会轻易剥离，有效地避免了peeling defect的产生；同时，碳化硅保温子基座内加入石棉可以起到很好的保温作用，再配合里面套有石英隔冷子基座的碳化硅隔冷子基座隔离底部冷却水的影响，使得冷却水不会影响LPCVD炉管底部的温控，并且能够带来很好的微粒效果。

主权项

一种基座，其特征在于，所述基座包括：支撑板，所述支撑板上开设有进液口及出液口，所述支撑板内设有与所述进液口及出液口相连通的适于冷却液循环流动的空腔结构；设置于所述支撑板上的隔冷子基座；设置于所述隔冷子基座上的保温子基座。