[实用新型]一种激光刻蚀装置及系统有效
| 申请号： | 201420292077.6 | 申请日： | 2014-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN203918235U | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 李景涛;樊俊锋;王明东;朱凯;杨坤 | 申请（专利权）人： | 国民技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种激光刻蚀装置及系统。该激光刻蚀装置包括：芯片，载物平台，光谱分析仪器及可调谐激光器。其中，载物平台用于承载芯片；光谱分析仪器用于检测芯片的待刻蚀信息；可调谐激光器根据待刻蚀层信息对芯片的待刻蚀层进行刻蚀。通过上述方式，本实用新型能能够实现对芯片的待刻蚀层进行自动刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 刻蚀 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种激光刻蚀装置，其特征在于，所述激光刻蚀装置包括：芯片；载物平台，用于承载所述芯片；光谱分析仪器，用于检测所述芯片的待刻蚀层信息；可调谐激光器，用于从所述光谱分析仪器获取所述待刻蚀层信息，并根据所述待刻蚀层信息对所述芯片的待刻蚀层进行刻蚀。
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