[实用新型]晶片擦洗机

摘要

本实用新型提供一种晶片擦洗机，包括：基体，基体具有一水平的顶面，所述顶面上设置有擦洗仓，在擦洗仓的入口侧和出口侧分别形成进料台和下料台；所述擦洗仓外罩设有防护罩，且进料台和下料台均位于防护罩的内部；防护罩顶面上开设有第一通气孔，所述防护罩底部与所述基体顶面之间形成第二通气孔。本晶片擦洗机，在有效防止外界杂质颗粒进入到晶片擦洗环境中的同时，还能利用由顶部进入防护罩、底部流出的气体带走内部的颗粒，有效减小了内部颗粒量，进而减小了擦洗后残存在晶片表面的颗粒量，大大提高了晶片擦洗质量。

主权项

一种晶片擦洗机，包括：基体，所述基体具有一水平的顶面，所述顶面上设置有擦洗仓，其特征在于，在所述擦洗仓的入口侧和出口侧分别形成进料台和下料台；所述擦洗仓外罩设有防护罩，且所述进料台和下料台均位于所述防护罩的内部；所述防护罩顶面上开设有第一通气孔，所述防护罩底部与所述基体顶面之间形成第二通气孔。