[实用新型]一种校准装置有效
| 申请号： | 201420019383.2 | 申请日： | 2014-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN203674158U | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 何春雷;王俊 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/304 | 分类号： | H01J37/304 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种校准装置，用于对离子注入机台的离子源和离子萃取部件进行校准，所述校准装置至少包括主校准支架和辅助校准件；所述主校准支架具有前壁、后壁、及侧壁；所述前壁、后壁及侧壁围成容置所述离子源的容置空间；所述前壁中设置有通孔；所述离子源具有第一狭缝；所述辅助校准件插设于所述通孔中；所述辅助校准件上具有第二狭缝，所述第二狭缝与所述第一狭缝对齐，完成所述离子源和离子萃取部件的校准。本实用新型的校准装置，能够保证离子源和离子萃取部件在同一水平线上，使离子顺利拉入离子萃取部件中，进而保证离子注入的注入质量。本实用新型的校准装置结构简单，适用于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 校准 装置 | ||
【主权项】：
一种校准装置，用于对离子注入机台的离子源和离子萃取部件进行校准，其特征在于，所述校准装置至少包括：主校准支架和辅助校准件；所述主校准支架具有前壁、后壁、及侧壁；所述前壁、后壁及侧壁围成容置所述离子源的容置空间；所述前壁中设置有通孔；所述离子源具有第一狭缝；所述辅助校准件插设于所述通孔中；所述辅助校准件上具有第二狭缝，所述第二狭缝与所述第一狭缝对齐，完成所述离子源和离子萃取部件的校准。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420019383.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种小型制冷剂分装机
- 下一篇：一种杠杆式手压防溢取液器
