[发明专利]新型重氮基苯并噻喃酮类光敏保护基及合成方法在审

专利信息
申请号: 201410724607.4 申请日: 2014-12-03
公开(公告)号: CN104478852A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 张有来;张欢;刘珊珊;马驰;程艳丽;洪丽虹;李保芬;杜旭泽 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: C07D335/06 分类号: C07D335/06;C07F9/6553
代理公司: 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 代理人: 赵瑶瑶
地址: 300384 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了新型重氮基苯并噻喃酮类光敏保护基及合成方法,本发明提供的化合物能够对磷酸官能团化合物的保护,新型苯并噻喃酮类光敏保护基光解离反应高效迅速,且在日常光照条件下具有良好的相对稳定性,且具有独特的既对光响应又能释放潜在荧光基团的光敏结构。便于对光控过程进行跟踪监测,达到释放的“可控性”、“可视性”。为在细胞生物环境下进行定量释放和积聚度研究提供新的研究方法。
搜索关键词: 新型 重氮基苯 酮类 光敏 保护 合成 方法
【主权项】:
一种新型重氮基苯并噻喃酮类光敏保护基,其特征在于:其结构通式如下:其中R1为:三氟甲基;芳基;R2为:对甲氧基;芳基。
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