[发明专利]含重氮基团的感光剂、光刻胶组合物与其制备方法有效
| 申请号： | 201410669245.3 | 申请日： | 2014-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN104391428B | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 汪建国 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/016 | 分类号： | G03F7/016;G03F7/039;C07C245/14 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;钟海胜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种含重氮基团的感光剂及重氮正性LCD用光刻胶组合物与其制备方法。本发明的含有重氮基团的姜黄素感光剂，是结构式如式I所示的化合物：本发明的光刻胶组合物，包括成膜树脂、所述含有重氮基团的姜黄素感光剂和有机溶剂。本发明的重氮姜黄素感光剂分子量为394，与现有由酯化母体与重氮萘醌磺酰氯酯化形成的重氮萘醌感光剂相比，可以得到更高的分辨率，而且分子量小可以让去胶过程容易，不易发生残留。并且，其制备产率高，热稳定性好。其与传统的成膜树脂组合成保存稳定性好、分辨率高的LCDTFT用正性光刻胶，从而解决目前重氮萘醌体系LCD光刻胶难于精制、保存稳定性差和分辨率偏低的问题。 |
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| 搜索关键词： | 感光剂 重氮基团 光刻胶组合物 姜黄素 重氮萘 分辨率 制备 保存稳定性 成膜树脂 重氮 正性光刻胶 热稳定性 有机溶剂 酰氯酯化 酯化母体 正性LCD 传统的 光刻胶 产率 去胶 醌磺 精制 残留 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，包括成膜树脂、感光剂和有机溶剂，所述感光剂为(式I)所示的含有重氮基团的姜黄素感光剂；![]()
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