[发明专利]一种光刻板清洗方法在审
| 申请号： | 201410599984.X | 申请日： | 2014-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN105632887A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 王耀斌 | 申请（专利权）人： | 陕西盛迈石油有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02 |
| 代理公司： | 西安亿诺专利代理有限公司 61220 | 代理人： | 刘斌 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市高新*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及光刻板的清洗领域，具体涉及一种光刻板的清洗方法。一种光刻板清洗方法，包括以下步骤：进行40s的丙酮刷洗工艺；15s的IPA清洗；步骤3：30s的DI水清洗；45s吹干，进行干燥；经承载光刻板的卡盘停止旋转，取走光刻板，置于翻转机构上，将光刻板翻转后，将背面朝上的光刻板取走，并进行背面的清洗，并同时进行第二块光刻板的正面的清洗，依次进行所有的光刻板的清洗工作。本发明提出的光刻板清洗方法简单易操作，使用其清洁后，洁净度高，工艺效果理想，工艺参数稳定，自动化程度高，批量处理能力强，适合大规模推广使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻板 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻板清洗方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1：首先进行40s的丙酮刷洗工艺；步骤2：丙酮刷洗结束后，进行15s的IPA清洗；步骤3：30s的DI水清洗；步骤4: 45s吹干，进行干燥；步骤5：经承载光刻板的卡盘停止旋转，取走光刻板，置于翻转机构上，将光刻板翻转后，将背面朝上的光刻板取走，并进行背面的清洗，并同时进行第二块光刻板的正面的清洗，依次进行所有的光刻板的清洗工作。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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