[发明专利]形成下陷图案方法、具下陷功能材料及其制造方法和制品在审
| 申请号： | 201410509577.5 | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN105523779A | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 蔡宪宗;蔡宪龙;林志升 | 申请（专利权）人： | 中国制釉股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/85 | 分类号： | C04B41/85;C04B41/86 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种形成下陷图案的方法、具下陷功能材料及其制造方法和制品，此形成下陷图案的方法包含：提供陶瓷、磁砖或玻璃载体，在载体表面之上施加面釉层，以印花制作工艺在载体表面之上施加具下陷功能材料，以及进行烧制步骤，在面釉层中产生下陷图案，此下陷图案对应于具下陷功能材料施加的区域。此外，本发明通过采用具下陷功能材料及其制造方法可制成下陷图案的陶瓷、磁砖或玻璃等制品。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 下陷 图案 方法 功能 材料 及其 制造 制品 | ||
【主权项】：
一种形成下陷图案的方法，包括：提供一载体，该载体的材料包含陶瓷、磁砖或玻璃；在该载体的一表面之上施加一面釉层；以一印花制作工艺在该载体的该表面之上施加一具下陷功能材料；以及进行一烧制步骤，在该面釉层中形成一下陷图案，其中该下陷图案对应于该具下陷功能材料施加的区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国制釉股份有限公司，未经中国制釉股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410509577.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
