[发明专利]一种石墨烯的制备方法及制备装置有效
申请号: | 201410499232.6 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN104264130B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 姜娟;高俊彦;刘荣明;王倩;滕阳民;李炳山 | 申请(专利权)人: | 北矿磁材科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C23C16/26;C23C20/06;C01B32/184;C01B32/186 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司11260 | 代理人: | 郑立明,李闯 |
地址: | 102600 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种石墨烯的制备方法及制备装置,该制备方法包括将片状金属基体悬空放置于反应室内,并使碳源材料接触片状金属基体;利用激光束对片状金属基体的一侧表面进行辐照,从而在片状金属基体的与激光束辐照面相反的一侧表面生成石墨烯;其中,片状金属基体的与激光束辐照面相反的一侧表面必须接触碳源材料。该制备装置包括反应室、基体支撑架、激光发射器、抽真空设备以及气体输入管;基体支撑架固定在反应室内,用于悬空设置片状金属基体;激光发射器所发射的激光束垂直辐照在片状金属基体的表面;抽真空设备和气体输入管均与反应室的内部连通。本发明实施例能够实现微纳尺寸结构的加工,不仅适用于各种波长的脉冲激光和连续激光,而且其碳源材料可以使用气态碳源,也可以使用固态碳源。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 制备 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种石墨烯的制备方法,包括:将片状金属基体置于反应室内的步骤,使碳源材料接触片状金属基体的步骤,以及利用激光束对片状金属基体进行辐照从而在片状金属基体表面生成石墨烯的步骤;其特征在于,将片状金属基体悬空放置于反应室内,并使碳源材料接触片状金属基体;利用激光束对片状金属基体的一侧表面进行辐照,从而在片状金属基体的与激光束辐照面相反的一侧表面生成石墨烯;其中,片状金属基体的与激光束辐照面相反的一侧表面必须接触碳源材料;所述的片状金属基体的厚度小于或等于20μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北矿磁材科技股份有限公司,未经北矿磁材科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410499232.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:砌块成型机的布料斗
- 下一篇:预制电缆沟过水槽模具
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的