[发明专利]一种高活性[001]晶面暴露比例Mo‑V‑Te‑Nb‑O催化剂及其制备和应用有效
| 申请号： | 201410441029.3 | 申请日： | 2014-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN105363431B | 公开（公告）日： | 2018-03-16 |
| 发明（设计）人： | 杨维慎;楚文玲;蔡睿;王红心 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | B01J23/28 | 分类号： | B01J23/28;C07C57/05;C07C51/215 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司21001 | 代理人： | 张晨 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种高活性[001]晶面暴露比例的Mo‑V‑Te‑Nb‑O催化剂及其制备方法和应用；其特征在于该催化剂活性组分的摩尔配比为MoVTeNb＝10.30.230.12；该催化剂的[001]晶面暴露比例通过添加表面形貌控制剂调节，所用表面形貌控制剂为多元醇或有机胺，形貌控制剂/Mo的摩尔比为0～2.0。本发明采用形貌控制剂制备的Mo‑V‑Te‑Nb‑O催化剂具有非常高的活性[001]晶面暴露比例，在丙烷选择氧化制丙烯酸反应中，表现出很高的催化活性、催化稳定性和丙烯酸选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 活性 暴露 比例 mo te nb 催化剂 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
一种高[001]晶面暴露比例Mo‑V‑Te‑Nb‑O催化剂，其特征在于：该催化剂活性组分的摩尔配比为Mo:V:Te:Nb＝1:0.3:0.23:0.12；该催化剂的[001]晶面暴露比例通过添加表面形貌控制剂调节，所用表面形貌控制剂为多元醇或有机胺，所述多元醇为乙二醇、丙三醇、聚乙二醇之一种或多种，有机胺为乙胺、丙胺、乙二胺、十六烷基胺之一种或多种。
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