[发明专利]挥发性的二氢吡嗪基和二氢吡嗪金属配合物

摘要

本文描述了包含二氢吡嗪基阴离子的组合物，所述二氢吡嗪基阴离子可以作为6电子配体与范围广泛的不同金属配位，以产生用于ALD和CVD沉积的挥发性金属配合物。本文还描述了未去质子化的二氢吡嗪，其可以作为稳定化中性配体与金属配位。在一个实施方式中，使用所述组合物来直接液体注射递送金属二氢吡嗪基配合物前体至ALD室或CVD室中，用于沉积含金属薄膜，例如钌或钴金属膜。

主权项

组合物，其包含一种或多种选自具有下式3A至3H的二氢吡嗪基或二氢吡嗪的金属配合物：其中，在式3A至3C的每一个中，R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1‑C6直链、支链或环状烷基；R5独立地选自H原子和C1‑C6直链、支链或环状烷基；(L)是选自环戊二烯基、五烷基环戊二烯基、二甲基环戊二烯基、三甲基环戊二烯基、甲基环戊二烯基、乙基环戊二烯基、咪唑基、三烷基咪唑基、吡咯基和烷基吡咯基的阴离子；M是二价金属，选自Fe、Co、Ni、Mn、Ru、Rh、Pd、Ir和Pt中的一种或多种；x＝1或2；x+y＝2；X独立地选自H原子、C1‑C6直链、支链或环状烷基、以及SiR6且其中R6独立地选自C1‑C3直链或支链烷基；其中，在式3D中，R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1‑C6直链、支链或环状烷基；R5独立地选自H原子和C1‑C6直链、支链或环状烷基；(L)是选自环戊二烯基、五烷基环戊二烯基、二甲基环戊二烯基、三甲基环戊二烯基、甲基环戊二烯基、乙基环戊二烯基、咪唑基、三烷基咪唑基、吡咯基和烷基吡咯基的阴离子；M是一价金属，选自Fe、Co、Ni、Mn、Ru、Rh、Pd、Ir和Pt中的一种或多种；x＝1；y＝1或2；Z独立地选自H原子、C1‑C6直链、支链或环状烷基、以及SiR6，其中R6独立地选自C1‑C6直链或支链烷基；其中，在式3E中，R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1‑C6直链、支链或环状烷基；R5独立地选自H原子和C1‑C6直链、支链或环状烷基；(Q)选自苯和烷基化苯；M是金属，选自Fe、Co、Ni、Mn、Ru、Rh、Pd、Ir和Pt中的一种或多种；x是1或2；y＝1；和Z独立地选自H原子和C1‑C6直链或支链烷基、或环状C3‑C6烷基、以及SiR6，其中R6是C1‑C3直链或支链烷基；其中，在式3F至3H的每一个中，R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1‑C6直链、支链或环状烷基；R5独立地选自H原子和C1‑C6直链、支链或环状烷基；(Q)是苯或烷基化苯；M是一价金属，选自Fe、Co、Ni、Mn、Ru、Rh、Pd、Ir和Pt中的一种或多种；y＝1；X独立地选自H原子、C1‑C6直链、支链或环状烷基、以及SiR6且其中R6独立地选自C1‑C3直链或支链烷基。