[发明专利]一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置及工艺在审

专利信息
申请号: 201410342848.2 申请日: 2014-07-17
公开(公告)号: CN104131345A 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 姜大川;李佳艳;谭毅;李鹏廷;任世强 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B28/06
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 赵淑梅;李馨
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置及工艺,属于多晶硅制备领域。一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置,所述装置包括炉体,炉体内部设有定向凝固块和置于定向凝固块之上的坩埚;所述定向凝固块下方中央处设有通气的底部管道(9),底部管道的管口离定向凝固块的距离为2~5cm。本发明所述的装置节省了炉体热场成本、人力成本及熔化阶段的能原消耗,降低生产成本5%,能够节省半熔工艺的熔化、长晶及冷却时间约4h,节省时间成本5%。
搜索关键词: 一种 底部 气冷 多晶 熔铸 装置 工艺
【主权项】:
一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置,其特征在于:所述装置包括炉体(2),炉体(2)内部设有定向凝固块(7)和置于定向凝固块(7)之上的坩埚(6);所述定向凝固块(7)下方中央处设有通气的底部管道(9),底部管道(9)的管口离定向凝固块(7)的距离为2~5cm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410342848.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top