[发明专利]垂直磁记录介质、其制造方法及磁记录再现装置在审
| 申请号： | 201410178875.0 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN104795079A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | 岩崎刚之;渡部彰 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明得到具有结晶取向性及低粒径分散性良好的磁性粒子且记录再现特性优良的垂直磁记录介质。实施方式涉及的垂直磁记录介质具有在基板上依次形成的、软磁性基底层、以具有面心立方结构的Ni为主成分得配向控制层、具有15％以下的间距分散的多个金属氧化物柱及包括在由多个金属氧化物柱划分的区域内生长的具有密排六方结构或面心立方结构的结晶微粒的粒径控制层以及垂直磁记录层。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 记录 介质 制造 方法 再现 装置 | ||
【主权项】：
一种垂直磁记录介质，其特征在于，具备：基板；软磁性基底层，其形成于该基板上；取向控制层，其形成于该软磁性基底层上且以具有面心立方结构的镍为主成分；形成于该取向控制层上的具有15％以下的间距分散的多个金属氧化物柱和包括在由多个该金属氧化物柱划分的区域内生长的、具有密排六方结构或面心立方结构的结晶微粒的粒径控制层；及垂直磁记录层，其形成于该粒径控制层上。
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