[发明专利]干蚀刻机及干蚀刻机的下电极无效
| 申请号： | 201410150959.3 | 申请日： | 2014-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN103903953A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 曾瑞轩;林志明 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/04 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李玉锁;张浴月 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种干蚀刻机及其下电极，该干蚀刻机用于对基板进行干蚀刻处理，该干蚀刻机包括：上电极；以及下电极，与该上电极相对设置，该下电极的用以承载该基板的上表面形成有多个凸点，所述凸点排布在该下电极的上表面的周围，或者所述凸点以“十”字型或“田”字型排布在该下电极的上表面上。本申请能改善黏片现象，并能有效进行冷却，同时不会造成凸点波纹，由此提高产品的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 电极 | ||
【主权项】：
一种干蚀刻机，用于对基板进行干蚀刻处理，该干蚀刻机包括：上电极；以及下电极，与该上电极相对设置，该下电极的用以承载该基板的上表面形成有多个凸点，所述凸点排布在该下电极的上表面的周围。
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