[发明专利]太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410143530.1 申请日: 2014-04-10
公开(公告)号: CN104752536B 公开(公告)日: 2016-08-10
发明(设计)人: 丁兆民;阮信晓;林昆志;廖智弘;曾奕文 申请(专利权)人: 新日光能源科技股份有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 王玉双,祁建国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种太阳能电池及其制造方法,包含一晶体硅半导体基板、一本质非晶硅半导体层、一非晶硅半导体层以及一透明导电层。所述晶体硅半导体基板具有一第一型掺杂,且所述晶体硅半导体基板上设有至少一沟槽,形成一封闭图形,封闭图形内定义为一第一电极区域,封闭图形外定义为一第二电极区域。其中本质非晶硅半导体层、非晶硅半导体层与透明导电层依序形成于晶体硅半导体基板上以及沟槽内,所述本质非晶硅半导体层、非晶硅半导体层与透明导电层于沟槽处会形成不连续的结构,并于第一与第二电极区域之间产生绝缘效果。
搜索关键词: 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种太阳能电池,其特征在于,包括一晶体硅半导体基板,具有一第一型掺杂,该晶体硅半导体基板至少一表面设有一沟槽,该沟槽形成一封闭图形,该封闭图形内定义为一第一电极区域,该封闭图形外定义为一第二电极区域;一本质非晶硅半导体层,形成于该晶体硅半导体基板上以及该沟槽内;一非晶硅半导体层,具有一第二型掺杂,该非晶硅半导体层形成于该本质非晶硅半导体层上;以及一透明导电层,形成于该非晶硅半导体层上;其中,该沟槽的深度大于该沟槽内的该本质非晶硅半导体层、该非晶硅半导体层与该透明导电层的厚度总和。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新日光能源科技股份有限公司,未经新日光能源科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410143530.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top