[发明专利]一种采用核回归技术的自适应光学邻近效应校正方法

摘要

本发明一种采用核回归技术的自适应光学邻近效应校正方法，具体过程为建立EBOPC数据库和PBOPC数据库；将待优化的掩模图形分割成若干子掩模图形；确定每个子掩模图形中的观测点；为各观测点分配子区域；在各观测点周围区域内进行采样取点；计算每个观测点与其周围掩模图形的平均距离；采用核回归技术生成OPC回归结果；将所有子掩模图形对应的OPC回归结果拼接为对应于整体掩模图形的OPC回归结果；对整体掩模图形的OPC回归结果进行后处理，获得最终的OPC优化结果。本发明利用核回归技术，有效提高了传统PBOPC的运算效率。

主权项

一种采用核回归技术的自适应光学邻近效应校正方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、建立EBOPC数据库和PBOPC数据库；步骤102、将待优化的掩模图形分割成若干子掩模图形，相邻所述子掩模图形之间具有宽度为woverlap的重叠区域；步骤103、分别确定步骤102中的每个子掩模图形中的观测点，并将确定的观测点记为Ok，其中子掩模图形中的观测点包括凸角顶点、凹角顶点和掩模图形边缘上的观测点；步骤104、为步骤103中的每一个观测点Ok分配一个子区域Mapk，每一个子区域中仅包含一个观测点；步骤105、对于每一个观测点Ok，在其周围区域内进行采样取点，并将每个采样点对应像素值按顺序排列为一个向量步骤106、计算每个观测点Ok与其周围掩模图形的平均距离若则在步骤107中采用PBOPC数据库进行核回归，否则在步骤107中采用EBOPC数据库进行核回归，其中符号threshold表示预定的阈值；步骤107、针对每个观测点Ok，采用核回归技术，根据所述向量从步骤106所选定的数据库中选择先验OPC优化结果进行加权平均，生成对应于观测点Ok的OPC回归结果，并将观测点Ok的OPC回归结果填充到对应的子区域Mapk中，从而针对每一个子掩模图形拼接成一个OPC回归结果；步骤108、在每一个子掩模图形对应的OPC回归结果中，去掉其外围宽度为woverlap的边缘区域，并将所有子掩模图形对应的OPC回归结果拼接为对应于整体掩模图形的OPC回归结果；步骤109、对步骤108中获得的整体掩模图形的OPC回归结果进行后处理，并将最终获得的OPC图形作为最终的OPC优化结果。