[发明专利]晶片组件和成像系统以及晶片组件制作方法有效
| 申请号： | 201410053226.8 | 申请日： | 2014-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN103777446A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 达靖虹;曾敏 | 申请（专利权）人： | 达靖虹;曾敏 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G02B5/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100000 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于投影的晶片组件，包括依次叠置的多层成像基片，基片上雕刻有图像信息；以及黑色滤光基片，位于多层成像基片侧面；基片固定件，将多层基片与黑色滤光基片固定。本发明还公开了含有该晶片组件的成像系统和该晶片组件的制作方法。与先前技术相比，本发明的晶片组件提高了图像的饱和度和质感。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 组件 成像 系统 以及 制作方法 | ||
【主权项】：
一种晶片组件，该晶片组件包括依次叠置的多层成像基片，其特征在于，成像基片上雕刻有图像信息；该晶片组件还包括黑色滤光基片，位于多层成像基片侧面；基片固定件，将多层基片与黑色滤光基片固定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于达靖虹;曾敏，未经达靖虹;曾敏许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410053226.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种图像的处理方法及相关装置
- 下一篇：一种中空氧化铜纳米材料的合成方法
