[发明专利]光场成像系统、及调节全光成像系统的方法有效
| 申请号： | 201410003320.2 | 申请日： | 2014-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN103913807A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | S.什洛夫;K.伯克纳 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G02B7/00 | 分类号： | G02B7/00;G03F7/20;G01J3/28 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张祥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种可调节的多模式光场成像系统。非均匀的滤镜模块定位在该光场成像系统的光瞳平面上并提供多模式性能。该滤镜模块能够相对于该成像系统被移动而相应地调节曝光条件，从而能够调节该多模式性能。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 系统 调节 方法 | ||
【主权项】：
一种可调节的多模式光场成像系统，包括：光学模块，其形成物体的光学像，所述光学模块的特征在于成像光学器件、光瞳平面及像平面；滤镜阵列，其大致定位在所述光瞳平面上，所述滤镜阵列可相对于所述光学模块移动；微成像元件的阵列，其大致定位在所述像平面上；检测器阵列，其以通过所述微成像元件将所述滤镜阵列成像在所述检测器阵列上的方式被定位，所述检测器阵列根据曝光条件来捕捉所述物体的多模式图像；以及控制器，其根据所述滤镜阵列的位置来调节所述曝光条件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光，未经株式会社理光许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410003320.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
