[发明专利]荧光X射线分析方法及荧光X射线分析装置有效

专利信息
申请号: 201380080243.4 申请日: 2013-10-15
公开(公告)号: CN105637352B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 寺下卫作 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 徐乐乐
地址: 日本京都府京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在利用从以有机物为主要成分的试样释放的X射线的测定结果对主要成分以外的含有成分进行定量的荧光X射线分析方法中,根据荧光X射线强度的测定值设定含有成分定量值;根据散射X射线强度的测定值以及假设试样由主要成分构成且照射的X射线全部入射到试样而计算出的散射X射线强度的理论值,计算表示X射线照射率的面积占有率;根据使用含有成分的定量值和面积占有率而计算出的荧光X射线强度的理论值以及荧光X射线强度测定值,再计算含有成分的定量值;根据使用含有成分的定量值和面积占有率而计算出的散射X射线强度的理论值与散射X射线强度的测定值的比较结果,再计算面积占有率;反复进行含有成分定量值的再计算以及面积占有率的再计算,以满足预先设定的收敛条件时的定量值作为所述含有成分的确定定量值。
搜索关键词: 荧光 射线 分析 方法 装置
【主权项】:
1.一种荧光X射线分析方法,其向以分子式已知的有机物作为主要成分的试样照射X射线,利用测量从该试样释放的X射线所得到的结果,对该试样中含有的所述主要成分以外的含有成分进行定量,所述荧光X射线分析方法的特征在于,a)根据测定出的荧光X射线的能量,确定所述含有成分的种类;b)根据来自所述试样的荧光X射线强度的测定值,设定所述含有成分的定量值;c)根据来自所述试样的散射X射线强度的测定值,以及假设试样由所述主要成分构成且照射的X射线全部入射到试样而计算出的散射X射线强度的理论值,计算表示对于所述试样的X射线的照射率的面积占有率;d)根据使用所述含有成分的定量值以及所述面积占有率而计算出的荧光X射线强度的理论值与所述荧光X射线强度的测定值的比较结果,再计算所述含有成分的定量值;e)根据使用再计算后的所述含有成分的定量值以及所述面积占有率而计算出的散射X射线强度的理论值与所述散射X射线强度的测定值的比较结果,再计算所述面积占有率;f)反复进行所述含有成分的定量值的再计算以及所述面积占有率的再计算,将再计算后的定量值和/或所述面积占有率满足预先设定的收敛条件时的定量值作为所述含有成分的确定定量值。
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