[发明专利]用于流量控制的井下接头组件以及用于完成井筒的方法有效
申请号: | 201380055672.6 | 申请日: | 2013-10-11 |
公开(公告)号: | CN104755695B | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | C·S·叶;M·D·巴里;M·T·赫克;T·J·墨菲特 | 申请(专利权)人: | 埃克森美孚上游研究公司 |
主分类号: | E21B33/00 | 分类号: | E21B33/00;E21B33/13;E21B34/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 柳爱国 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出一种用于在地下地层中完成井筒的方法,所述方法包括提供第一中心管和第二中心管。每个中心管包括形成主流动通路的管状体并具有沿外直径的、用于作为次流动通路输送流体的输送导管。所述方法还包括使用联接组件连接这些中心管。所述联接组件具有歧管、以及靠近歧管并将主流动通路放置为与次流动通路流体连通的流动端口。所述方法还包括将中心管下入到井筒中,然后使流体在主流动通路与次流动通路之间移动。本发明还提出一种井筒完成装置,所述装置允许在主流动通路与次流动通路之间控制流体。 | ||
搜索关键词: | 流动通路 中心管 井筒 联接组件 歧管 地下地层 接头组件 控制流体 流动端口 流量控制 流体连通 输送导管 输送流体 完成装置 管状体 井下 流体 移动 | ||
【主权项】:
1.一种用于在地下地层中完成井筒的方法,该方法包括:提供第一中心管和第二中心管,且每个中心管包括:中心管状体,所述中心管状体具有第一端、第二端以及在第一端和第二端之间形成主流动通路的孔;沿外直径的至少两个中心输送导管,所述至少两个中心输送导管作为次流动通路用于输送除砾浆之外的流体;通过联接组件将第一中心管的第二端操作性地连接到第二中心管的第一端,所述联接组件包括接收第一和第二中心管的相应中心输送导管的歧管,以及将主流动通路放置为与次流动通路流体连通的靠近歧管的流动端口;将第一和第二中心管下入到井筒中;以及使所述除砾浆之外的流体在主流动通路与次流动通路之间移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃克森美孚上游研究公司,未经埃克森美孚上游研究公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380055672.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:水平井中的横向和轴向水力裂缝之间的竞争
- 下一篇:用于底孔组件的稳定器装置