[发明专利]电光器件堆叠体

摘要

本发明提供了制造电光器件堆叠体(10)的方法，该方法包括设置包括接触电荷注入层(12)的电光层(13)的多层结构，电荷注入层(12)包含酸性化合物(12m)；在电光层(13)上沉积抗蚀剂层(14)，抗蚀剂层(14)包含可阳离子交联的抗蚀剂材料(14m)；通过由来自电荷注入层(12)的质子(12p)而引发的交联反应来使抗蚀剂材料(14m)在与电光层(13)中的缺口(12’、13’)相邻处进行反应，由此用包含交联的抗蚀剂材料(14c)的补片(14p)来覆盖所述缺口(12’、13’)；以及去除抗蚀剂材料(14m)的没有交联的部分，其中补片(14p)被保留为布置成用于在电荷注入层(12)与后续沉积在电光层(13)和补片(14p)上的层之间提供电绝缘。

主权项

一种制造电光器件堆叠体(10)的方法，所述方法包括：‑提供接触电光层(13)的电荷注入层(12)，所述电荷注入层(12)包含引发剂化合物(12p)；‑在所述电光层(13)上沉积抗蚀剂层(14)，所述抗蚀剂层(14)包含与所述引发剂化合物(12p)反应的抗蚀剂材料(14m)；‑通过由来自所述电荷注入层(12)的所述引发剂化合物(12p)而引发和/或催化的反应来使所述抗蚀剂材料(14m)在与所述电光层(13)中的缺口相邻处进行反应，由此形成覆盖所述缺口的经反应的抗蚀剂材料的补片(14p)；以及‑去除所述抗蚀剂材料的没有反应的部分，其中，所述补片(14p)被保留为布置成用于在所述电荷注入层(12)与后续沉积在所述电光层(13)和所述补片(14p)上的层(15)之间提供电绝缘。