[实用新型]管式PECVD及其隔离保护装置有效
申请号: | 201320869143.7 | 申请日: | 2013-12-26 |
公开(公告)号: | CN203625465U | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 康淼;许明金;陈绵宝;谭铮;陈敬梨 | 申请(专利权)人: | 海南英利新能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波 |
地址: | 570000 海南*** | 国省代码: | 海南;66 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种管式PECVD及其隔离保护装置,隔离保护装置包括:支架(4);用于设置于管式PECVD的碳化硅桨之间的隔离板(1);与所述支架(4)连接并支撑所述隔离板(1)的支撑架。本实用新型提供的隔离保护装置,通过使用本实用新型提供的隔离保护装置,使隔离板设置于管式PECVD的碳化硅桨之间,在管式PECVD的其中一根碳化硅桨断裂后,该层的碳化硅桨碎块及其上的石墨舟落入该根碳化硅桨与下一根碳化硅桨之间的隔离板上,避免砸断下一根碳化硅桨,进而减小了管式PECVD的损坏度,进而降低了经济损失。 | ||
搜索关键词: | pecvd 及其 隔离 保护装置 | ||
【主权项】:
一种隔离保护装置,其特征在于,包括:支架(4);用于设置于管式PECVD的碳化硅桨之间的隔离板(1);与所述支架(4)连接并支撑所述隔离板(1)的支撑架。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的