[实用新型]GaN基发光二极管外延片及GaN基发光二极管有效

专利信息
申请号: 201320860420.8 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN203659912U 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 李鹏;张翼 申请(专利权)人: 佛山市国星半导体技术有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 528226 广东省佛山市南海*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种GaN基发光二极管外延片及GaN基发光二极管,其插入层结构为周期结构,即多个氮化铟镓层,以及相邻两个氮化铟镓层之间形成缓冲层。在前一个氮化铟镓层出现V型缺陷前,在前一个氮化铟镓层表面形成缓冲层,最大程度的避免V型缺陷的出现,进而保证了发光层的晶体质量,提高GaN基发光二极管的发光效率和抗静电能力。
搜索关键词: gan 发光二极管 外延
【主权项】:
一种GaN基发光二极管外延片,其特征在于,包括:衬底;n型半导体层,形成于所述衬底表面;插入层,形成于所述n型半导体层表面,且所述插入层包括:多个氮化铟镓层,以及位于相邻两个所述氮化铟镓层之间的缓冲层;发光层,形成于所述插入层表面;电子阻挡层,形成于所述发光层表面;p型半导体层,形成于所述电子阻挡层表面。
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