[实用新型]一种膜层刻蚀防损伤监控设备有效
| 申请号： | 201320851584.4 | 申请日： | 2013-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN203882952U | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 刘政;任章淳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显示技术领域，特别涉及一种膜层刻蚀防损伤监控设备，该监控设备包括腔室，所述腔室中设有光源和若干个光感探头，所述光源向基板上的所述膜层照射，所述光感探头用于感应所述膜层的透光率。本实用新型提供的膜层刻蚀防损伤监控设备，结构简单，使用方便，通过对比不同状态下膜层的透光率，可有效监控对膜层的刻蚀程度，最大程度确保膜层不被过度刻蚀，确保膜层的性能，进而提高产品的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 损伤 监控 设备 | ||
【主权项】：
一种膜层刻蚀防损伤监控设备，其特征在于，包括腔室，所述腔室中设有光源和若干个光感探头，所述光源向基板上的所述膜层照射，所述光感探头用于感应所述膜层的透光率。
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