[实用新型]一种常压室温等离子体诱变育种装置

摘要

本实用新型涉及一种常压室温等离子体诱变育种装置，包括壳体、控制系统以及在壳体内分别设置的样品处理系统、冷却系统和检测系统，样品处理系统包括操作室、等离子发生器、射频电源和喷嘴，冷却系统和检测系统均设置于操作室的外部，冷却系统包括依次连接的水泵、水箱、水冷换热器和散热风扇，水泵与等离子发生器相连，等离子发生器与水冷换热器相连；检测系统包括气体流量控制器、温度传感器和位置传感器，控制系统包括操作面板、电源控制按钮和控制器。本实用新型采用冷却系统对等离子发生器进行冷却，同时配置操作面板实现自动化监测和控制，能高效完成在常压室温环境下的等离子体诱变育种。

主权项

一种常压室温等离子体诱变育种装置，其特征在于，包括壳体、控制系统以及在壳体内分别设置的样品处理系统、冷却系统和检测系统，所述样品处理系统包括操作室、设置于操作室外部的等离子发生器和射频电源、以及沿着操作室的顶部穿入操作室内的喷嘴，所述操作室内设置有载物平台，所述等离子发生器分别连接喷嘴和射频电源；所述冷却系统和检测系统均设置于操作室的外部，所述冷却系统包括依次连接的水泵、水箱、水冷换热器和散热风扇，所述水泵与等离子发生器相连，所述等离子发生器与水冷换热器相连；所述检测系统包括气体流量控制器、温度传感器和位置传感器，所述气体流量控制器与等离子体发生器相连，温度传感器和位置传感器均固定在操作室内壁上；所述控制系统包括操作面板、电源控制按钮和控制器，所述操作面板和电源控制按钮均设置于壳体外表面，位于壳体内部、操作室的外部的控制器分别连接载物平台、射频电源、气体流量控制器、温度传感器、位置传感器、水泵和操作面板。