[实用新型]一种硅片清洗装置有效
| 申请号： | 201320515020.3 | 申请日： | 2013-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN203448356U | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 戴洪烨;左国军 | 申请（专利权）人： | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/00 | 分类号： | B08B11/00 |
| 代理公司： | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人： | 胡朝阳;孙洁敏 |
| 地址： | 213125 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种硅片清洗装置，包括主槽、副槽、管路和设于主槽内的传动系统，所述的主槽为一双层槽结构，其包括安装于机架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其顶端的上槽；所述上槽的长、宽均小于下槽；所述的传动系统设置在上槽中。本实用新型将主槽设计为双层结构，在保证主槽长度的基础上缩小了副槽的体积，从而减少了药液配置量，提高了药液利用率；同时双层结构的主槽可防止药液回流时溢出主槽，提高了设备运行的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗装置，包括主槽、副槽、管路和设于主槽内的传动系统，其特征在于：所述的主槽为一双层槽结构，其包括安装于机架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其顶端的上槽；所述上槽的长、宽均小于下槽；所述的传动系统设置在上槽中。
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