[实用新型]一种版盒处理装置有效
| 申请号： | 201320417269.0 | 申请日： | 2013-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN203444237U | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 牟吉元;胡松立;姜杰;姜晓玉;王邵玉;马喜宝 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种版盒处理装置，由若干个单版版盒处理装置组成，所述单版版盒处理装置包括：层连接组件和定位组件；其中，所述层连接组件用于连接相邻2个所述单版版盒处理装置；所述定位组件用于2个相邻连接的所述单版版盒处理装置之间的定位。通过定位组件和层连接组件将若干个单版版盒处理装置进行拼接，实现单版版盒处理装置的扩展，提高了版盒传输的效率。此外，版盒解锁机构能够方便可靠地实现版盒的解锁，同时，装有滚珠轴承的弹簧装置实现了对版盒的多方向的定位，结构简单且能够实现对版盒的夹持功能，增强了人机操作的方便性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种版盒处理装置，由若干个单版版盒处理装置组成，其特征在于，所述单版版盒处理装置包括：层连接组件和定位组件；其中，所述层连接组件用于连接相邻2个所述单版版盒处理装置；所述定位组件用于2个相邻连接的所述单版版盒处理装置之间的定位。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
