[实用新型]增强型狭缝光波导外延型光栅FP腔光学生化传感芯片有效
申请号: | 201320266638.0 | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN203376259U | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 袁国慧;王卓然;高亮 | 申请(专利权)人: | 成都谱视科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 周永宏 |
地址: | 610041 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型的增强型狭缝光波导外延型光栅FP腔光学生化传感芯片,包括自下而上依次层叠键合的硅基层、二氧化硅层和单晶硅层构成的基体,基体的单晶硅层包含狭缝光波导,狭缝光波导的光信号传播路径上包含光栅FP腔,增强狭缝槽位于所述光栅FP腔的两个光栅之间的区域,光栅FP腔的光栅为外延型光栅,位于长方形基体外侧,为外凸型齿状光栅。本实用新型的光学生化传感芯片通过在顶部的单晶硅层形成光栅FP腔检测外界物质对光信号的影响,同时引入狭缝光波导结构,使光信号的检测从传统的倏逝场转向狭缝空间,其优势在于狭缝空间中的光能量密度远大于倏逝场中光能量的密度,光与物质相互作用更强,使检测灵敏度更高,检测难度进一步降低。 | ||
搜索关键词: | 增强 狭缝 波导 外延 光栅 fp 光学 生化 传感 芯片 | ||
【主权项】:
增强型狭缝光波导外延型光栅FP腔光学生化传感芯片,包括自下而上依次层叠键合的硅基层、二氧化硅层和单晶硅层构成的基体,其特征在于,所述基体的单晶硅层包含狭缝光波导,所述狭缝光波导的光信号传播路径上包含光栅FP腔,基体俯视方向为长方形,所述狭缝光波导为增强型狭缝光波导,所述增强型狭缝光波导包括中心狭缝槽和增强狭缝槽,中心狭缝槽位于基体长度方向的中心轴线上,长度与基体所述中心轴线相等,增强狭缝槽对称分布与中心狭缝槽两边,方向与中心狭缝槽一致,所述增强狭缝槽位于所述光栅FP腔的两个光栅之间的区域,所述光栅FP腔的光栅为外延型光栅,位于长方形基体外侧,为外凸型齿状光栅。
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