[实用新型]精密对位平台

摘要

本实用新型公开了一种精密对位平台，包括：一底座，包括一构件装设面；一活动平台，设于构件装设面上方一间隔高度位置处；至少两组导动装置，呈不同作动轴向分布型态组设连接于构件装设面与活动平台的底面之间，导动装置驱使控制活动平台产生平移调整运动；一可控制式磁吸接口，设于构件装设面与活动平台的底面之间，包括设于底座预定区域的一导磁面域以及组设定位于活动平台底面的一磁吸座，磁吸座能够通过控制朝底座的导磁面域产生一磁吸作用力；活动平台的定止状态通过可控制式磁吸接口的启动而获得加强定位效果，消除构件组合间隙与累进公差，且有效支撑对抗活动平台的侧向力、重压力及滚压作用力，达到增益活动平台结构强度与稳固性的目的。

主权项

一种精密对位平台，其特征在于包括：一底座，包括一着置面以及一构件装设面；一活动平台，设于底座的构件装设面上方一间隔高度位置处，该活动平台包括一加工台面以及一底面；至少两组导动装置，呈不同作动轴向分布型态组设连接于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，导动装置藉以驱使控制活动平台产生平移调整运动；一可控制式磁吸接口，设于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，包括：一导磁面域，设于底座预定区域；一磁吸座，组设定位于活动平台底面，该磁吸座通过控制导磁面域产生一磁吸作用力。