[实用新型]一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置有效
| 申请号： | 201320149157.1 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN203134749U | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 赵吾阳;蒋冬华;倪水滨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/04 | 分类号： | H01J37/04;H01J37/30 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及干刻蚀技术领域，特别涉及一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置，用于提高基板刻蚀的合格率。本实用新型公开了一种干刻蚀装置的下部电极，包括：电极基底，设置于所述电极基底上的陶瓷层，且所述陶瓷层具有供冷却气体通过的多个吹气孔，以及设置于所述陶瓷层周边且凸出所述陶瓷层上表面的凸台。采用本实用新型提供的下部电极对基板进行刻蚀时，基板中部与陶瓷层上表面接触，基板边缘由凸台支撑，如此设置，可以提高刻蚀的均一性，从而提高基板刻蚀的合格率。本实用新型同时还公开了一种干刻蚀装置，包括具有上述特征的干刻蚀装置的下部电极。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 装置 下部 电极 | ||
【主权项】：
一种干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，包括：电极基底和设置于所述电极基底上的陶瓷层；其中，所述陶瓷层具有供冷却气体通过的多个吹气孔，以及设置于所述陶瓷层周边且凸出所述陶瓷层上表面的凸台。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201320149157.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：带状态指示功能的洗衣机
- 下一篇：经编增强织物加热挤压机构
