[实用新型]掩膜版盒有效
申请号: | 201320094045.0 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN203133471U | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 邢滨;岳力挽 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种掩膜版盒,包括一个底座、盖于所述底座上的壳罩以及用以将所述底座与所述壳罩固定在一起的限制块和旋转臂,所述壳罩包括垂直于所述底座的侧壁,所述旋转臂的一端与所述侧壁旋转连接,另一端与所述限制块固定连接,所述旋转臂的旋转轴心垂直于所述掩模版盒底座,所述壳罩侧壁包括互相平行的内侧壁和外侧壁,所述内侧壁与所述外侧壁均设有供所述限制块旋转穿过的开口,所述侧壁还包括末端连接壁,所述末端连接壁连接所述内侧壁和所述外侧壁的开口末端。本实用新型通过末端连接壁的设置,连接了内侧壁和外侧壁的开口末端,避免了两个开口末端因为触碰等原因而发生破碎,进而避免了碎片通过内侧壁上的开口进入到掩膜版盒。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版盒 | ||
【主权项】:
一种掩膜版盒,包括一个底座、盖于所述底座上的壳罩以及用以将所述底座与所述壳罩固定在一起的限制块和旋转臂,所述壳罩包括垂直于所述底座的侧壁,所述旋转臂的一端与所述侧壁旋转连接,另一端与所述限制块固定连接,所述旋转臂的旋转轴心垂直于所述底座,所述侧壁包括互相平行的内侧壁和外侧壁,所述内侧壁与所述外侧壁均设有供所述限制块旋转穿过的开口,其特征在于:所述侧壁还包括末端连接壁,所述末端连接壁连接所述内侧壁和所述外侧壁的开口末端。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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