[实用新型]掩膜版盒有效
申请号: | 201320094045.0 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN203133471U | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 邢滨;岳力挽 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版盒 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种掩膜版盒。
背景技术
随着半导体制造技术的发展,掩膜版的花费正在日益增长。现有技术中通常在光掩膜版表面设置一个保护膜对掩膜版进行保护,防止其被污染。一旦保护膜受到了损害,就必须重新制作,极大地增加了消耗,同时也容易延误产品的制作日常。
当掩膜版被传输至晶圆厂中后,掩膜版通常是被放置在一个掩膜版盒中,请参考图1,其为现有技术中的掩膜版盒底部一角的仰视示意图(面向底座),包括一个底座101、盖于所述底座101上的壳罩以及用以将所述底座101与所述壳罩固定在一起的限制块102和旋转臂112,所述壳罩包括垂直于所述底座101的侧壁,所述限制块102通过一个旋转臂112与所述侧壁旋转连接,且所述限制块102平行于所述底座101表面绕所述旋转臂112的一端旋转,所述旋转臂112的一端与所述侧壁旋转连接,另一端与所述限制块102固定连接,所述旋转臂112的旋转轴心垂直于所述底座,所述侧壁包括互相平行的内侧壁103和外侧壁104,所述内侧壁103与所述外侧壁104均设有供所述限制块旋转穿过的开口,分别是内开口105和外开口106。限制块102和旋转臂112在壳罩的四角各有一个。图1仅展示了其中的一角,其他各角上的限制块102、旋转臂112、内开口105以及外开口106均与其类似。
在现有技术中,内开口105和外开口106末端的内侧壁103和外侧壁104由于单独露在外面,经常会因为触碰发生破碎现象,以至于碎片从内开口105处进入到掩膜版盒内,进而刮伤了其中的掩膜版及其表面的保护膜。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种能避免侧壁破碎的掩膜版盒。
为了解决这一技术问题,本实用新型提供了一种掩膜版盒,包括一个底座、盖于所述底座上的壳罩以及用以将所述底座与所述壳罩固定在一起的限制块和旋转臂,所述壳罩包括垂直于所述底座的侧壁,所述旋转臂的一端与所述侧壁旋转连接,另一端与所述限制块固定连接,所述旋转臂的旋转轴心垂直于所述底座,所述限制块通过一个旋转臂与所述侧壁旋转连接,且所述限制块平行于所述底座表面绕所述旋转臂的一端旋转,所述侧壁包括互相平行的内侧壁和外侧壁,所述内侧壁与所述外侧壁均设有供所述限制块旋转穿过的开口,所述侧壁还包括末端连接壁,所述末端连接壁连接所述内侧壁和所述外侧壁的开口末端。
所述末端连接壁的数量为两个,分别位于所述限制块的两侧,分别连接位于所述限制块的同侧的内侧壁的开口末端与外侧壁的开口末端。
位于所述限制块的与所述旋转臂同侧的末端连接壁沿竖直方向的高度位置与所述限制块的旋转运动平面错开。
所述侧壁还包括垂直连接壁,所述垂直连接壁垂直于所述内侧壁与外侧壁设置。
所述垂直连接壁与位于所述限制块同侧的所述末端连接壁等高。
所述末端连接壁的一端与所述垂直连接壁的一端重合。
所述末端连接壁的位于所述外侧壁的一端与所述垂直连接壁的位于所述外侧壁的一端重合。
所述内侧壁的开口小于所述外侧壁的开口。
本实用新型通过末端连接壁的设置,连接了内侧壁和外侧壁的开口末端,从而避免了两个开口末端因为触碰等原因而发生破碎,进而避免了碎片通过内侧壁上的开口进入到掩膜版盒,最终防止了碎片刮伤掩膜版或掩模版上的保护膜。提供了一种能避免侧壁破碎的掩膜版盒。
附图说明
图1是现有技术中的掩膜版盒底部一角的仰视结构示意图;
图2是本实用新型一实施例提供的掩膜版盒底部一角的仰视结构示意图;
图中,101—底座;102—限制块;112—旋转臂;103—内侧壁;104—外侧壁;105—内开口;115—内开口第一末端;125—内开口第二末端;106—外开口;116—外开口第一末端;126—外开口第二末端;107—第一垂直连接壁;108—第一末端连接壁;117—第二垂直连接壁;118—第二末端连接壁。
具体实施方式
以下将结合图2对本实用新型提供的掩膜版盒进行详细的描述,其为本实用新型一可选的实施例,可以认为本领域的技术人员可以根据公知的常识,在不修改本实用新型的精神和内容的范围内对其进行修改和润色。
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