[发明专利]一种用于PECVD系统的匀气装置

摘要

本发明涉及半导体技术领域，具体涉及一种用于PECVD系统的匀气装置。所述匀气装置包括设置在基片台的下方的第一匀气盘，第一匀气盘为圆盘状结构，第一匀气盘的外缘与腔室的内壁紧密贴合；第一匀气盘的中间设有通气孔，基片台的支撑杆位于通气孔中，通气孔的直径大于支撑杆的直径。本发明提供的匀气装置中的第一匀气盘设置在基片台的下方，气体从第一匀气盘与支撑杆之间的空隙流向出气口，这对下半部分腔室中气流起到很好的控制作用，从而使整个腔室中气流分布更均匀，保证沉积薄膜均匀性。

主权项

一种用于PECVD系统的匀气装置，所述PECVD系统的腔室内设有基片台及用于支撑所述基片台的支撑杆，其特征在于：所述匀气装置包括设置在所述基片台的下方的第一匀气盘，所述第一匀气盘为圆盘状结构，所述第一匀气盘的外缘与所述腔室的内壁紧密贴合；所述第一匀气盘的中间设有通气孔，所述支撑杆位于所述通气孔中，所述通气孔的直径大于所述支撑杆的直径。