[发明专利]自动抛光系统和方法有效
| 申请号： | 201310646850.4 | 申请日： | 2013-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN103846771B | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | M.L.亨特 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 肖日松;严志军 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开一种自动抛光系统，所述自动抛光系统包括：抛光器，所述抛光器用于抛光物品上的涂层；自动定位器，所述自动定位器用于使所述抛光器在自动路径上相对于所述物品移动，其中所述抛光器在移动过程中对所述涂层的至少一部分进行抛光；力反馈传感器，所述力反馈传感器用于确定在抛光过程中所述抛光器对所述物品的力；以及控制器，所述控制器用于至少部分基于由所述力反馈传感器确定的所述力来将所述抛光器对所述物品的作用维持在预定的力范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 抛光 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于抛光具有涂层的物品的自动抛光系统，所述自动抛光系统包括：抛光器，所述抛光器用于抛光所述物品上的所述涂层；自动定位器，所述自动定位器用于使所述抛光器在自动路径上相对于所述物品移动，其中所述抛光器在移动过程中对所述涂层的至少一部分进行抛光；力反馈传感器，所述力反馈传感器用于确定在抛光过程中所述抛光器对所述物品的力；和控制器，所述控制器用于至少部分基于由所述力反馈传感器确定的所述力来将所述抛光器对所述物品的力维持在预定的力范围内，其中所述控制器在抛光时改变所述抛光器的一个或多个抛光参数。
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