[发明专利]一种还原同时实现氮掺杂的氧化石墨烯微结构的激光加工方法无效
| 申请号： | 201310636263.7 | 申请日： | 2013-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN103626118A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 孙洪波;郭莉;张永来;陈岐岱 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人： | 张景林;王恩远 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 种还原同时实现氮掺杂的氧化石墨烯微结构的激光加工方法，属于微纳制造技术领域。其首先在衬底上制备氧化石墨烯薄膜，然后在氧化石墨烯薄膜上制作提供加工气氛的微腔，最后在NH3条件下，利用搭建的激光微纳加工系统对氧化石墨烯进行激光直写加工，获得还原并氮掺杂的氧化石墨烯微结构。本发明结合激光加工高精度、任意成型等特点，根据软件编辑可设计并获得任意形状的氮掺杂的石墨烯微结构，实现器件的任意集成，并且调节加工氛围、激光加工功率、曝光时间、加工步长可调节还原程度和掺杂浓度，最高掺杂浓度可达10.3%。氮原子的种类（包括石墨化、吡啶化和吡咯化的氮原子）和含量可通过调节激光功率来进行调变。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 还原 同时 实现 掺杂 氧化 石墨 微结构 激光 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种还原同时实现氮掺杂的氧化石墨烯微结构的激光加工方法，其步骤如下：1)在衬底上制备氧化石墨烯薄膜；2)在氧化石墨烯薄膜上制作提供加工气氛的微腔；3)在NH3条件下，对氧化石墨烯进行激光直写加工，从而得到还原同时实现氮掺杂的氧化石墨烯微结构。
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