[发明专利]形成用于图像传感器的双尺寸微透镜的方法有效
申请号: | 201310589075.3 | 申请日: | 2013-11-20 |
公开(公告)号: | CN104103653A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 李津;陈刚;钱胤;戴森·幸志·戴 | 申请(专利权)人: | 全视科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 齐杨 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种形成用于图像传感器的双尺寸微透镜的方法。揭示一种形成用于具有至少一个大面积像素及至少一个小面积像素的图像传感器的微透镜的方法。所述方法包含在所述图像传感器的光入射侧上于所述大面积像素上方及所述小面积像素上方形成均匀微透镜材料层。所述方法还包含将所述微透镜材料层形成为安置于所述大面积像素上方的第一块及安置于所述小面积像素上方的第二块。还在所述第二块中形成空隙以减小所述第二块中所包含的微透镜材料的体积。接着,使所述第一及第二块回流以形成相应的第一微透镜及第二微透镜。所述第一微透镜具有与所述第二微透镜实质上相同的有效焦距。 | ||
搜索关键词: | 形成 用于 图像传感器 尺寸 透镜 方法 | ||
【主权项】:
一种形成用于具有至少一个大面积像素及至少一个小面积像素的图像传感器的微透镜的方法,所述方法包括:在所述图像传感器的光入射侧上于所述至少一个大面积像素上方及所述至少一个小面积像素上方形成均匀微透镜材料层;将所述微透镜材料层形成为安置于所述至少一个大面积像素上方的第一块及安置于所述至少一个小面积像素上方的第二块;在所述第二块中形成至少一个空隙以减小所述第二块中所包含的微透镜材料的体积;及使所述第一块及所述第二块回流以形成相应的第一微透镜及第二微透镜,其中所述第一微透镜具有与所述第二微透镜实质上相同的有效焦距。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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