[发明专利]处理多晶硅还原尾气的方法和系统有效
申请号: | 201310553735.2 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN103539069A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 司文学;严大洲;肖荣晖;汤传斌;杨永亮 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C01B3/50 | 分类号: | C01B3/50;C01B33/107;C01B33/12 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种处理多晶硅还原尾气的方法和系统,该方法包括:将多晶硅还原尾气进行除尘处理,以便得到经过除尘的还原尾气;将经过除尘的还原尾气进行冷凝处理,以便得到第一氯硅烷和经过冷凝处理的还原尾气;将经过冷凝处理的还原尾气进行第一加压冷却处理,以便得到第二氯硅烷和经过第一加压冷却处理的还原尾气;将经过第一加压冷却处理的还原尾气进行吸附处理和脱吸处理,以便得到氢气和包含氯硅烷和氯化氢的混合气体;将包含氯硅烷和氯化氢的混合气体进行第二加压冷却处理,以便得到第三氯硅烷和包含氯化氢的不凝气。 | ||
搜索关键词: | 处理 多晶 还原 尾气 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种处理多晶硅还原尾气的方法,其特征在于,包括:将所述多晶硅还原尾气进行除尘处理,以便得到经过除尘的还原尾气;将所述经过除尘的还原尾气进行冷凝处理,以便得到第一氯硅烷和经过冷凝处理的还原尾气;将所述经过冷凝处理的还原尾气进行第一加压冷却处理,以便得到第二氯硅烷和经过第一加压冷却处理的还原尾气;将所述经过第一加压冷却处理的还原尾气进行吸附处理,以便得到氢气和含有氯硅烷和氯化氢的吸附剂;将所述含有氯硅烷和氯化氢的吸附剂进行脱吸处理,以便得到包含氯硅烷和氯化氢的混合气体;将所述包含氯硅烷和氯化氢的混合气体进行第二加压冷却处理,以便得到第三氯硅烷和包含氯化氢的不凝气。
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