[发明专利]一种无基底支撑的导电聚吡咯薄膜的制备方法有效
申请号: | 201310533491.1 | 申请日: | 2013-11-04 |
公开(公告)号: | CN104164680B | 公开(公告)日: | 2017-07-18 |
发明(设计)人: | 程广贵;石阳阳;丁建宁;张忠强;郭立强;濮华胜;凌智勇 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | C25B3/00 | 分类号: | C25B3/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及聚吡咯导电薄膜的制备方法,特指一种无基底支撑的导电聚吡咯薄膜的制备方法。本发明采用三电极系统,以饱和甘汞电极为参比电极,铂片电极为辅助电极,不锈钢为工作电极,采用恒电位模式进行聚合,聚合电位控制在0.6V‑0.8V,聚合时间不小于60分钟,开始时聚吡咯薄膜先在不锈钢片工作电极上聚合,当不锈钢片上铺满聚吡咯薄膜后开始以不锈钢片为中心,以液面为支撑,向外铺展生长聚吡咯薄膜。采用该方法制备的聚吡咯导电薄膜,导电性能良好,无需从基底上剥离,可以方便地用于微电子器件的生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 基底 支撑 导电 吡咯 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种无基底支撑的导电聚吡咯薄膜的制备方法,采用三电极系统,以饱和甘汞电极为参比电极,铂片电极为辅助电极,不锈钢为工作电极,其特征在于包括如下步骤:(1)将吡咯单体溶于去离子水中配置成浓度为0.1mol/L‑0.2mol/L的吡咯单体溶液;(2)制备过程在水溶液中进行,取吡咯单体溶液按体积比2:1混合于支持电解质溶液中,支持电解质溶液为浓度0.05mol/L的去离子水溶液,在聚合前先向溶液中通入干燥的氮气以排除溶解于溶液中的氧,从而避免聚合时溶解氧被还原而影响聚吡咯薄膜的形成;(3)反应在室温下进行,溶液的pH值严格控制在7~8之间,采用恒电位模式进行聚合,聚合电位控制在0.6V‑0.8V,聚合时间不小于60分钟,开始时聚吡咯薄膜先在不锈钢片工作电极上聚合,当不锈钢片上铺满聚吡咯薄膜后开始以不锈钢片为中心,以液面为支撑,向外铺展生长聚吡咯薄膜。
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