[发明专利]涂胶显影机的工艺模块结构及布局方法在审
| 申请号： | 201310529037.9 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN104597726A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 胡延兵;魏猛;王阳;卢继奎 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 何丽英 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及在集成电路生产时与光刻机联线作业的涂胶显影机，具体地说是一种涂胶显影机的工艺模块结构及布局方法。包括离心处理工艺模块和热处理工艺模块，多个所述离心处理工艺模块堆砌成叠层的离心处理工艺组，多个所述热处理工艺模块堆砌成叠层的热处理工艺组，所述热处理工艺模块结构上具有双通道。涂胶站和显影站内均设有离心处理工艺组和热处理工艺组，多个所述离心处理工艺组横向平行排列，多个所述热处理工艺组纵向平行排列，涂胶站和显影站内的工艺组呈反C型布局排列，反C型布局的中心放置晶圆传送机器人。本发明工艺模块的排布合理，机台结构紧凑占地面积小，内部工艺模块具有互换性，扩展了本机的工艺适应性。 | ||
| 搜索关键词： | 涂胶 显影 工艺 模块 结构 布局 方法 | ||
【主权项】：
一种涂胶显影机的工艺模块结构，其特征在于：包括离心处理工艺模块和热处理工艺模块，多个所述离心处理工艺模块堆砌成叠层的离心处理工艺组(3)，多个所述热处理工艺模块堆砌成叠层的热处理工艺组(2)，所述热处理工艺模块结构上具有双通道。
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