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[发明专利]半导体处理设备的使用方法、半导体处理设备、及存储介质-CN202110151133.9有效
发明人：陈鲁;王彦彦;张朝前;马砚忠;卢继奎;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-02-03 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请公开了一种半导体处理设备、半导体处理设备的使用方法、及非易失性计算机可读存储介质。半导体处理设备包括设有开口的处理腔室、位于处理腔室内的激光器、及设于开口处的遮挡件，遮挡件设置在开口处并能够调节开口的开合度。半导体处理设备的使用方法包括：获取开口的开合度；及当开口的开合度超过预设的安全阈值时，降低激光器的输出功率或激光器停止发光。本申请实施方式的半导体处理设备及半导体处理设备的使用方法中，激光器与开口的开合度关联，当开口的开合度超过预设的安全阈值时，可降低激光器的输出功率，或激光器停止发光。如此，无论开口的开合度处于任何状态，均能够保护开口处的操作人员的眼睛安全。
半导体处理设备使用方法存储介质

[发明专利]一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质-CN202111132753.4在审
发明人：陈鲁;季鹏;杨乐;郑策;王秋实;卢继奎;王南朔 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G01B9/04 文献下载
摘要：本发明提供一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质，所述检测方法包括：获取样品和第一检测模块，所述样品包括至少一个参考点，所述第一检测模块用于对样品进行检测并输出检测信息；通过第一检测模块对样品的每个参考点分别进行检测处理，获取初始位置关系；根据所述初始位置关系获取位置关系；获取第一检测模块与参考点表面沿测量方向的相对位置处于预设位置时所述参考点的检测信息，作为第一基准检测信息；根据所述参考点的第一基准检测信息获取第二基准检测信息；根据所述待测点的检测信息、所述位置关系和第二基准检测信息，获取所述待测点相对于所述预设位置沿测量方向的高度差。所述方法能够提高检测速度。
一种检测方法系统计算机可读存储介质

[发明专利]一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质-CN202111129733.1在审
发明人：陈鲁;季鹏;杨乐;郑策;王秋实;卢继奎;王南朔 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种检测方法、检测系统及计算机可读存储介质，用于提升获取待侧点测量位置的便捷性。本申请实施例中的检测方法包括：获取样品和第一检测模块，样品包括多个参考点，通过第一检测模块对样品的每个参考点分别进行检测处理，获取初始位置关系，初始位置关系为所述测量位置和参考点的各检测信息之间的关系，根据初始位置关系获取位置关系，位置关系表示样品待测点的测量位置与检测信息之间的关系；通过第一检测模块对处于待测位置样品的待测点进行检测，以获取待测点的检测信息，待测位置为第一检测模块和样品之间沿测量方向的相对位置；根据检测信息、位置关系和基准位置，获取待测点相对基准位置沿测量方向的高度差。
一种检测方法系统计算机可读存储介质

[发明专利]一种光学设备的装调方法以及装调系统-CN202110753928.7在审
发明人：陈鲁;王南朔;马砚忠;王秋实;卢继奎;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-07-03 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G02B27/62 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种光学设备的装调方法以及装调系统，该装调方法包括：提供第一测试光源，将第一测试光源安装于探测器位置；将第一光学元件安装于第一光学元件位置；通过第一测试光源向第一光学元件发射第一测试光信号，基于第一测试光信号的传输光路以及光路中心轴线对探测器和/或第一光学元件进行装调，根据光路可逆的原理，利用所述装调方法装调后的光学设备进行检测时，所述光学设备中的检测光信号会通过所述第一光学元件被所述探测器探测，使得所述探测器和所述第一光学元件具有较高的装调精度，从而使得所述装调方法能够有效提高所述光学设备的装调精度。
一种光学设备方法以及系统

[发明专利]检测设备及检测方法、检测系统及存储介质-CN202110755148.6在审
发明人：陈鲁;王南朔;王秋实;卢继奎;马砚忠;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明提供一种检测设备，包括：定位模块，所述定位模块包括：定位光源组件，产生第一定位光束和第二定位光束，第一定位光束和第二定位光束的波长不同；成像组件，根据所述第一定位信号光形成第一定位图像，并根据所述第二定位信号光形成第二定位图像；处理模块，根据所述第一定位图像获取第一位置信息，根据所述第二定位图像获取第二位置信息；检测模块，根据第一位置信息对第一待测目标进行检测，并根据第二位置信息对第二待测目标进行检测。定位模块能够对待测目标进行成像，获取待测目标的位置信息，根据位置信息进行检测，能够提高检测精度，第一定位光束和第二定位光束的波长不同能对不同待测目标进行精确定位。
检测设备方法系统存储介质

[发明专利]承载装置、检测设备及承载装置的使用方法-CN202110739168.4在审
发明人：陈鲁;卢继奎;马砚忠;张朝前;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本申请提供一种承载装置、检测设备及使用方法。承载装置包括承载部及吹气部。承载部包括承载组件，承载组件用于支撑工件边缘以使工件固定于承载组件的承载面。吹气部与固定于承载面的工件的顶面形成第一腔室，吹气部设有第一气孔，第一气孔用于向第一腔室吹气，第一腔室具有出气口，出气口用于排出第一腔室中的气体，使工件的中心区域形成涡旋气流。本申请的承载装置中，利用吹气部的第一气孔朝第一腔室吹气，并使第一腔室内的气体从出气口排出，使得工件顶面的中心区域形成涡旋气流，使该中心区域范围内的气压小于承载装置外部的气压，工件的顶面和底面两侧存在气压差，避免工件的中心区域因为自身重力而发生形变，保证工件具有良好的平整度。
承载装置检测设备使用方法

[发明专利]固定装置及使用方法-CN202110745312.5在审
发明人：陈鲁;卢继奎;马砚忠;张朝前;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本发明公开一种固定装置及使用方法，所述固定装置包括吸盘和泄气通道；所述吸盘设有多个主气腔，所述多个主气腔通过所述泄气通道泄气；所述吸盘设有多组注气孔，每个所述主气腔各自与一组注气孔孔连通，所述注气孔连通供气设备，通过供气设备向所述主气腔供气，根据待测物的尺寸选择向不同的主气腔供气。采用本方案，固定状态下，待测物背面不会被固定装置大面积地接触到，并且一套固定装置可以固定不同尺寸的待测物，且可以灵活选择给全部主气腔充气或者仅给部分主气腔充气，避免了小尺寸的待测物受到外围主气腔的气流干扰而出现固定不稳的情况。
固定装置使用方法

[实用新型]一种光学检测设备-CN202120933066.1有效
发明人：王南朔;王秋实;卢继奎;马砚忠;陈鲁;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种光学检测设备，包括检测系统和去污系统，检测系统包括用于向待测物表面出射测量光束的检测光源组件，去污系统包括用于出射去污光束的去污光源组件和位于去污光束的光路上的光路转换件；光路转换件用于使至少部分去污光束入射至待测物，以清除待测物表面的污染物。利用光路转换件对去污光束光路的转换作用，可使去污光束在待测物表面形成光斑的位置至少部分重叠于测量光束在待测物表面形成光斑的位置，在启用检测系统对待测物的某一区域位置进行光学检测之前，可利用去污光束对该区域位置的污染物进行清除，从而既可以确保检测结果的准确性，又可以针对待测物的同一待测位置进行高精度的重复测量，保证测量结果的一致性。
一种光学检测设备

[发明专利]控制方法和检测装置-CN202110325990.6在审
发明人：陈鲁;王彦彦;张朝前;马砚忠;卢继奎;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明公开了一种控制方法和检测装置，检测装置包括腔体、移动组件、承载组件和至少两个测距传感器，腔体形成有腔室，移动组件位于腔室内，承载组件连接移动组件，移动组件用于驱动承载组件移动，承载组件包括吸盘，至少两个测距传感器安装在吸盘的预设位置，控制方法包括：通过至少两个测距传感器检测吸盘和腔室内壁之间形成的第一距离；在第一距离小于预设距离的情况下，获取吸盘的移动速度；根据吸盘的移动速度，确定对吸盘进行调节的调节速率；根据调节速率对吸盘进行调节。上述控制方法可降低吸盘和其吸附的晶圆受到损坏的风险。
控制方法检测装置

[实用新型]固定装置-CN202121489916.X有效
发明人：陈鲁;卢继奎;马砚忠;张朝前;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G01D11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种固定装置，所述固定装置包括吸盘和泄气通道；所述吸盘设有气腔，所述气腔通过所述泄气通道泄气；所述吸盘设有与所述气腔相通的检压孔，所述检压孔连通检压设备，通过检压设备检测所述气腔内部的压力；所述吸盘设有与所述气腔相通的注气孔，所述注气孔连通供气设备，通过供气设备向所述气腔供气。采用本方案，固定状态下，待测物背面不会被固定装置大面积地接触到，并且，可以根据气腔的内部压力灵活调节吸盘作用在待测物上的吸附力的大小，从而能实现稳固固定且不会因吸附力过大而损伤待测物，并且，可以独立调节不同气腔的内部压力，从而能使待测物不同区域所受的吸附力趋于一致，避免待测物弯曲变形。
固定装置

[实用新型]一种检测装置-CN202122336998.0有效
发明人：陈鲁;季鹏;郑策;王秋实;杨乐;卢继奎;王南朔 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种检测装置，用于光学检测，具体包括：所述光源用于发射检测光至样品的待测点，所述检测光的入射角为锐角；所述检测光经所述样品反射形成信号光，所述信号光用于在所述探测器的光敏面形成信号光斑；所述探测器用于根据所述信号光斑在所述光敏面的位置获取所述待测点沿测量方向的检测高度，所述测量方向与所述样品表面垂直或具有锐角夹角。
一种检测装置

[实用新型]一种检测设备-CN202121516273.3有效
发明人：王秋实;王南朔;卢继奎;马砚忠;张嵩;陈鲁 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本实用新型提供一种检测设备，包括：定位模块，所述定位模块包括：成像组件，包括第一成像单元，用于探测至少部分所述定位信号光并根据探测的定位信号光形成第一定位图像；第二成像单元，用于探测至少部分所述定位信号光并根据探测的定位信号光形成第二定位图像；所述第一成像单元和第二成像单元的放大倍数不同；处理模块，用于根据所述第一定位图像和/或第二定位图像对所述待测目标进行定位，获取待测目标的位置信息；检测模块，用于根据所述位置信息对所述待测目标进行检测。能够对不同尺寸的待测目标的精确定位，提高检测模块的检测精度。
一种检测设备

[实用新型]翘曲校正装置及检测设备-CN202121081119.8有效
发明人：李少雷;张朝前;马砚忠;卢继奎;陈鲁;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本申请公开了一种翘曲校正装置及检测设备。翘曲校正装置包括按压件，按压件包括按压部和第一密封圈。按压部设有吹气单元，第一密封圈设于按压部，第一密封圈环绕吹气单元，用于与工件接触，并与工件及按压部共同形成密封空间。其中，通过吹气单元能够朝密封空间吹气，以降低工件的翘曲程度。本申请通过气体按压工件，可以降低工件的翘曲程度，并且非接触式按压可避免对工件造成脏污、压伤等损坏。
校正装置检测设备

[实用新型]翘曲校正装置及检测设备-CN202120616334.7有效
发明人：陈鲁;李少雷;张朝前;马砚忠;卢继奎;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请公开了一种翘曲校正装置及检测设备。翘曲校正装置包括基板及多个按压组件。基板包括相背的第一面及第二面，基板还包括中心区域及环绕中心区域的边缘区域。中心区域及边缘区域均分布有按压组件，每个按压组件均设置于第一面并朝远离第二面的方向延伸，每个按压组件均能够相对独立地对工件提供压力，以对工件进行按压以校正工件的翘曲程度。本申请实施方式的翘曲校正装置及检测设备中，每个按压组件均能够相对独立地对工件提供压力，以对工件进行按压以校正工件的翘曲程度。
校正装置检测设备

[实用新型]半导体处理设备-CN202120308857.5有效
发明人：陈鲁;皮林立;马砚忠;张朝前;卢继奎;李少雷;王兵;张嵩 -专利权人：深圳中科飞测科技股份有限公司
申请日： 2021-02-03 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供一种半导体处理设备。该半导体处理设备包括壳体、阻隔结构及进风装置。壳体设有第一腔及第二腔。阻隔结构设置在第一腔与第二腔之间，阻隔结构包括第一隔板及第二隔板，第一隔板及第二隔板间隔以形成气流通道，气流通道用于阻挡第二腔内的热量进入第一腔；阻隔结构还包括第一开口与第二开口，第一开口与第二开口均与气流通道连通；进风装置设于壳体的顶部，进风装置的出风方向指向第一开口，用于向气流通道吹风；第一开口用于供进风装置产生的气流进入气流通道，第二开口用于排出流经气流通道的气流。本申请的半导体处理设备利用第一隔板与第二隔板形成的气流通道能阻挡第二腔内的热量进入第一腔，实现第一腔的稳定控温，保证处理精度。
半导体处理设备

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